The AZ 5214E resist in EBDW lithography and its use as a RIE etch-mask in etching thin Ag layers in N2 plasma

Počet záznamov: 1

Názov	The AZ 5214E resist in EBDW lithography and its use as a RIE etch-mask in etching thin Ag layers in N2 plasma
Autor	Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
Spoluautori	Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
	Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
	Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
	Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
	Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
	Škriniarová Jaroslava
Zdroj.dok.	Journal of Electrical Engineering. Vol. 64, no. 6 (2013), p. 371-375
Kategória	ADNA - Vedecké práce v domácich impaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2013
DOI	10.2478/jee-2013-0056

článok

Počet záznamov: 1